Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/123456789/7302
Title: Формування КМОН схем на GaAs із самосуміщеними нітридними та силіцидними затворами
Other Titles: Formation CMOS Schemes on GaAs with Self-Aligned Nitride and Silicide Gates
Authors: Новосядлий, Степан Петрович
Терлецький, Андрій Іванович
Фрик, Оксана Богданівна
Keywords: арсенід галію
польові транзистори Шотткі
нітрид вольфраму
силіцид вольфраму
Issue Date: 2015
Publisher: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Citation: Новосядлий С. П. Формування КМОН схем на GaAs із самосуміщеними нітридними та силіцидними затворами / С. П. Новосядлий, А. І. Терлецький, О. Б. Фрик // Фізика і хімія твердого тіла. - 2015. - Т. 16. - № 2. - С. 420-424.
Abstract: Розглянуто особливості технологічних процесів формування n- та p-канальних польових транзисторів Шотткі на р-GaAs із самосуміщеним затвором на основі нітриду або силіциду вольфраму, які можуть бути використані для створення швидкодіючих комплементарних логічних схем. Описано низькотемпературну технологію реактивного осадження нітриду вольфраму методом ВЧ-магнетронного розпилення вольфрамової мішені в азотно-аргоновій плазмі.
URI: http://hdl.handle.net/123456789/7302
Appears in Collections:Т. 16, № 2

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
773-2403-1-SM.pdf621.48 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.