Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/123456789/7302
Title: | Формування КМОН схем на GaAs із самосуміщеними нітридними та силіцидними затворами |
Other Titles: | Formation CMOS Schemes on GaAs with Self-Aligned Nitride and Silicide Gates |
Authors: | Новосядлий, Степан Петрович Терлецький, Андрій Іванович Фрик, Оксана Богданівна |
Keywords: | арсенід галію польові транзистори Шотткі нітрид вольфраму силіцид вольфраму |
Issue Date: | 2015 |
Publisher: | ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника" |
Citation: | Новосядлий С. П. Формування КМОН схем на GaAs із самосуміщеними нітридними та силіцидними затворами / С. П. Новосядлий, А. І. Терлецький, О. Б. Фрик // Фізика і хімія твердого тіла. - 2015. - Т. 16. - № 2. - С. 420-424. |
Abstract: | Розглянуто особливості технологічних процесів формування n- та p-канальних польових транзисторів Шотткі на р-GaAs із самосуміщеним затвором на основі нітриду або силіциду вольфраму, які можуть бути використані для створення швидкодіючих комплементарних логічних схем. Описано низькотемпературну технологію реактивного осадження нітриду вольфраму методом ВЧ-магнетронного розпилення вольфрамової мішені в азотно-аргоновій плазмі. |
URI: | http://hdl.handle.net/123456789/7302 |
Appears in Collections: | Т. 16, № 2 |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
773-2403-1-SM.pdf | 621.48 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.