Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/7269
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorЛоп'янко, Михайло Антонович-
dc.contributor.authorНикируй, Ростислав Іванович-
dc.contributor.authorТкачук, Андрій Іванович-
dc.date.accessioned2020-05-17T13:26:42Z-
dc.date.available2020-05-17T13:26:42Z-
dc.date.issued2010-09-15-
dc.identifier.citationМ.А. Лоп’янко. Парофазне осадження тонких плівок телуриду свинцю. І. Планування та оптимізація технології/ М.А. Лоп’янко, Р.І. Никируй, А.І. Ткачук// Фізика і хімія твердого тіла, Т. 11, № 4 (2010) С. 876-883uk_UA
dc.identifier.issn1729-4428-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/7269-
dc.description.abstractМетодами математичного планування багатофакторних експериментів одержано рівняння регресії, які визначають залежність електричних параметрів епітаксійних плівок РbТe на сколах (111) ВаF2 від технологічних факторів вирощування з парової фази методом гарячої стінки. Визначено значення температур випаровування Тв підкладки Тп та стінок камери Тс, при яких формуються тонкі плівки із оптимальними електричними параметрами.uk_UA
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherПрикарпатський національний університет ім. В. Стефаникаuk_UA
dc.subjectгаряча стінкаuk_UA
dc.subjectплюмбум телуридuk_UA
dc.titleПарофазне осадження тонких плівок телуриду свинцю. І. Планування та оптимізація технологіїuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Розташовується у зібраннях:Статті та тези (ФТФ)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
2010 т.11 №4.pdf468.8 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.