Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/566
Назва: Вплив термовідпалів і способів охолодження на електрофізичні параметри n-Si, легованого домішкою фосфору через розплав і методом ядерної трансмутації
Інші назви: Effect of Thermal Annealings and Cooling Methods on Electrophysical Parameters of n-Si, Doped with Phosphorus Impurity via the Melt and by Nuclear Transmutation Technique
Автори: Гайдар, Галина Петрівна
Ключові слова: електрофізичні параметри
n-кремній
способи легування
параметри анізотропії
термічний відпал
швидкість охолодження
Дата публікації: 2018
Бібліографічний опис: Гайдар Г. П. Вплив термовідпалів і способів охолодження на електрофізичні параметри n-Si, легованого домішкою фосфору через розплав і методом ядерної трансмутації / Г. П. Гайдар // Фізика і хімія твердого тіла. - 2018. - Т. 19. - № 1. - С. 40-47.
Короткий огляд (реферат): У роботі досліджено вплив різних режимів термообробки на кінетику електронних процесів у кристалах кремнію, легованих домішкою фосфору через розплав та методом ядерної трансмутації. Встановлено найбільш значний вплив охолодження при проміжному значенні швидкості охолодження (uохол=15 оС/хв) після високотемпературного відпалу на основні електрофізичні параметри трансмутаційно легованих кристалів n‑Si(P). Виявлено і пояснено особливості змін параметрів анізотропії рухливості і термоерс, виміряних на кристалах кремнію різних способів легування, як у вихідному стані, так і після високотемпературного відпалу при використанні різних швидкостей охолодження.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/566
Розташовується у зібраннях:Т.19 №1

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
2343-8365-1-PB.pdf179.43 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.