Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/123456789/15350
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorБалабай, Руслана Михайлівна-
dc.contributor.authorЧернікова, Олена Миколаївна-
dc.date.accessioned2023-02-22T07:53:33Z-
dc.date.available2023-02-22T07:53:33Z-
dc.date.issued2012-
dc.identifier.citationБалабай Р. М. Вплив присутності атомів хрому на оксидацію плівки Si / Р. М. Балабай, О. М. Чернікова // Фізика і хімія твердого тіла. - 2012. - Т. 13. - № 4. - С. 993-999.uk_UA
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/15350-
dc.description.abstractДля вияснення мікроскопічних механізмів прискорення процеса оксидації Si в присутності моношару Cr було проведено теоретичне дослідження взаємодії атомарного кисню з тонкою плівкою кремнію в присутності атомів Cr. Методами функціоналу електронної густини та псевдопотенціалу із перших принципів отримані розподіли густини валентних електронів та електронні енергетичні спектри для тонкої плівки кремнію в присутності моноатомного шару Cr та атомарного кисню. Спостерігається послаблення зв’язків SiSi у шарах плівки кремнію близьких до моношару Cr. Реактивність атомів Cr збільшується при їх неповній окисленності.uk_UA
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"uk_UA
dc.subjectпроцес оксидаціїuk_UA
dc.subjectплівка кремніюuk_UA
dc.subjectкаталітичний вплив Cruk_UA
dc.subjectгустина валентних електронівuk_UA
dc.titleВплив присутності атомів хрому на оксидацію плівки Siuk_UA
dc.title.alternativeInfluence of The Presence of Chromium Atom on the Si Film Oxidationuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Appears in Collections:Т. 13, № 4

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
1304-26.pdf372.8 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.