Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/1167
Назва: Фоточутливість польових транзисторів Шотткі на епішарах GaAs на моно-Si-підкладці
Інші назви: Photosensitivity of MESFETs on Epitaxy Layers of GaAs with Monocrystalline Silicon Wafer
Автори: Новосядлий, Степан Петрович
Грига, Володимир Михайлович
Павлишин, А. В.
Луковкін, Володимир Віталійович
Ключові слова: ПТШ
арсенідгалій
гетероперехід
Дата публікації: 2019
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Новосядлий С. П. Фоточутливість польових транзисторів Шотткі на епішарах GaAs на моно-Si-підкладці / С. П. Новосядлий, В. М. Грига, А. В. Павлишин, В. М. Луковін // Фізика і хімія твердого тіла. - 2019. - Т. 20. - № 4. - С. 453-456.
Короткий огляд (реферат): Досліджені основи і фізичні механізми, які визначають фоточутливість арсенідгалієвих ПТШ на моно-Si-підкладках на бар’єрі Шотткі при їх освітленні випромінювання в області домішкової смуги поглинання. Проведені експерименти показали, що характер змін струму стоку в такій структурі при освітленні визначаються типом глибоких центрів, а величина його зміни визначається в основному дією двох факторів: зміни ширини шару об’ємного заряду бар’єрного контакту та ширини дипольного шару на межі розділу активний гетероперехідний шар-Si-підкладка.Така конструкція структури ПТШ рекомендується як фотодетектор для приймальних оптичних модулів волоконно-оптичних систем передачі сигналів.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/1167
Розташовується у зібраннях:Т. 20, № 4

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
3956-12533-1-PB.pdf419.21 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.