Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/11016
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorСаган, П.-
dc.contributor.authorФругинський, М.-
dc.contributor.authorМрочка, Р.-
dc.contributor.authorВіш, Г.-
dc.date.accessioned2021-10-05T07:02:51Z-
dc.date.available2021-10-05T07:02:51Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.citationСаган П. Властивості багатокомпонентної (Mn-Ni-Co-Al-Si-Ti) оксид-шпінельної ієрархічно організованої наноструктури, осадженої магнетронним розпиленням при двох температурах / П. Саган, М. Фругинський, Р. Мрочка, Г. Віш // Фізика і хімія твердого тіла. - 2021. - Т. 22. - № 3. - С. 494-500.uk_UA
dc.identifier.other10.15330/pcss.22.3.494-500-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/11016-
dc.description.abstractБагатокомпонентні шпінельніплівки наносили на підкладки Ag/Si методом магнетронного розпилення. Задавали дві температури підкладки. XRD-вимірювання показують, що шари складаються з трьох оксидів металів (Mn2O3, NiO, CoO). Наявність шпінельної фази погано візуалізована. Однак, вимірювання дифракції електронів (RHEED) чітко підтвердили наявність наноструктурованої структури шпінелі поверх зразків. Більш того, АСМ вимірювання вказують, що на поверхні зразка присутні наноструктуровані острівці шпінелі. Дослідження підтвердилиотримання ієрархічно організованихнаноструктур оксидів шпінелі. Обговорено можливий модельний ріст наноструктур шпінелі при різних температурах.uk_UA
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"uk_UA
dc.subjectмагнетронне розпиленняuk_UA
dc.subjectієрархічні структуриuk_UA
dc.subjectоксиди шпінеліuk_UA
dc.subjectплівкиuk_UA
dc.titleВластивості багатокомпонентної (Mn-Ni-Co-Al-Si-Ti) оксид-шпінельної ієрархічно організованої наноструктури, осадженої магнетронним розпиленням при двох температурахuk_UA
dc.title.alternativeProperties of multicomponent (Mn-Ni-Co-Al-Si-Ti) oxide spinel hierarchically organized nanostructures deposited by magnetron sputtering in two temperatures.uk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Розташовується у зібраннях:Т. 22, № 3

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
5221-Текст статті-12929-1-10-20210906.pdf802.18 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.