Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/10147
Назва: Вплив фінішної хімічної обробки поверхні кремнієвих пластин на десорбцію іонів Ag+ , Fe3+ , Ca2+
Інші назви: Effect of Finishing Chemical Treatment of Si-Wafers Surface on the Desorption of Ag+ , Fe3+ , Ca2+ Ions
Автори: Воробець, Марія Михайлівна
Ключові слова: напівпровідник
Si-пластини
адсорбція
десорбція
Дата публікації: 2014
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Воробець М. М. Вплив фінішної хімічної обробки поверхні кремнієвих пластин на десорбцію іонів Ag+ , Fe3+ , Ca2+ / М. М. Воробець // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 1. - С. 169-172.
Короткий огляд (реферат): Досліджено ефективність різних варіантів фінішної хімічної обробки (ФХО), яку застосовують для зменшення неконтрольованого технологічного забруднення поверхні Si-пластин. Показниками якісного і кількісного оцінювання ефективності ФХО обрано величини зміни контактної різниці потенціалів (КРП), роботи виходу електронів (РВЕ) та поверхневого опору. Експериментально встановлено, що адсорбція іонів Fe3+ і Ca2+ призводить до зменшення, а іонів Ag+ – до збільшення величини КРП. Показано, що у випадку обробки Si-пластин в амоніачно-пероксидних розчинах (АПР) ступінь десорбції іонів Феруму не перевищує 40 %, тоді як іони Ag+ десорбуються повністю. Введення в АПР калій гідроксиду, обробка в кислотно-пероксидних розчинах (КПР) або комбінована обробка в АПР+КПР збільшують ступінь десорбції іонів Fe3+ до 100 %. Десорбція іонів Са2+ відбувається з меншою ефективністю, ніж іонів Fe3+ та Ag+.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/10147
Розташовується у зібраннях:Т. 15, № 1

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
!1501-24.pdf121.73 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.