Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/10116
Назва: Тензоопір багатодолинних напівпровідників n-Si та n-Ge в широкому інтервалі концентрацій
Інші назви: Тensoresistance of n-Si and n-Ge Multi-Valley Semiconductors Over a Wide Range of Concentrations
Автори: Гайдар, Галина Петрівна
Баранський, Петро Іванович
Коломоєць, В. В.
Ключові слова: кремній
германій
тензоопір
направлена пружна деформація
Дата публікації: 2014
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Гайдар Г. П. Тензоопір багатодолинних напівпровідників n-Si та n-Ge в широкому інтервалі концентрацій / Г. П. Гайдар, П. І. Баранський, В. В. Коломоєць // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 1. - С. 58-62.
Короткий огляд (реферат): У роботі при Т = 77,4 К досліджено тензоопір монокристалів n-Si і n-Ge в широкому інтервалі концентрацій 1014 £ ne £ 2 × 1019 cм -3 і механічних напружень 0 £ Х £ 1,5 ГПа та обговорено деякі його особливості, що проявляються на межі виродження електронного газу в цих кристалах. Приведено фізичне обґрунтування одержаних результатів.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/10116
Розташовується у зібраннях:Т. 15, № 1

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
!1501-08.pdf173.71 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.